El vostre proveïdor professional de màquines de tall per làser de carbur de silici (SiC)!
YCLaser desenvolupa i fabrica màquines de processament làser per a ceràmiques de carbur de silici (SiC), que cobreixen el tall de precisió, el tall de contorns, la perforació, la traçada, la ranurada, la retallada i altres processos de mecanitzat personalitzats.

-
Màquina de tall làser UV de ceràmica SiCLa màquina de tall làser UV de ceràmica SiC està dissenyada per tallar, perforar, traçar i micromecanitzar amb precisió els components ceràmics de carbur de silici (SiC).
-
Màquina de tall per làser de ceràmica SiC QCWLa màquina de tall làser de ceràmica SiC QCW està dissenyada per tallar i perforar{0}}alta eficiència de components ceràmics de carbur de silici (SiC) amb gruixos típics de 0,3 a 6 mm.
-
Màquina de perforació làser fotovoltaica solarIntroducció a l'equip La màquina està equipada amb un sistema làser de fibra{0}}d'alta potència per tallar, perforar i gravar amb precisió la ceràmica avançada. Optimitzat per a materials ultra-durs,
-
Dispositiu de potència SiC Màquina de tallar làser per làserDescripció dels productes La màquina de tallar làser de làser de dispositiu de potència SiC està dissenyada específicament per a la separació i el tallat de precisió d'hòsties de carbur de silici

- Material:Carbur de silici (SiC)
- Processament:Tall · Trepat · Traçat · Ranurat · Retall · Micromecanitzat
- Opcions làser:UV de 355 nm · Fibra QCW de 1060–1080 nm · Picosegon UV
- Gruix QCW típic:Aproximadament. 0.3–6 mm
- Tipus de màquina:Sistema de processament làser industrial personalitzat
*La capacitat de processament real depèn de la composició de SiC, la densitat, el gruix, la geometria, el diàmetre del forat, els requisits de qualitat de la vora-i altres condicions del procés.
Per què triar WHYC Laser per al processament de SiC?
Múltiples solucions làser SiC
WHYC Laser proporciona configuracions làser de nanosegons UV, nanosegons de fibra QCW i picosegons UV per a diferents requisits de processament de SiC.
Material{0}}Desenvolupament de processos específics
Desenvolupem paràmetres làser segons el material de SiC real en lloc de confiar només en la potència o el gruix del làser nominal.
Configuració personalitzada de la màquina
L'àrea de treball, la potència làser, el sistema òptic, la plataforma de moviment, el posicionament visual, l'automatització i els sistemes auxiliars es poden configurar segons l'aplicació.
Experiència avançada de processament de ceràmica
Els nostres sistemes làser estan dissenyats per a materials difícils de mecanitzar--com ara SiC, Si₃N₄, AlN, Al₂O₃, ZrO₂ i altres ceràmiques avançades.
Prova de mostra abans d'invertir en equips
Els clients poden proporcionar mostres i dibuixos per a l'avaluació del procés abans de seleccionar la configuració final de la màquina.
Suport d'equips integrats
Des de la selecció de fonts-làser i desenvolupament de processos fins a la fabricació de màquines, proves, instal·lacions i assistència tècnica, oferim una solució de processament-integrada de làser.
Capacitats de processament làser SiC
|
Procés |
Aplicació típica |
|
Tall de precisió |
Components ceràmics SiC prims |
|
Tall de perfils |
Contorns complexos de SiC |
|
Escriptura |
Separació ceràmica i tractament de superfícies |
|
Ranurat |
Ranures estretes i funcionals |
|
Perforació de-forats grans |
Obertures estructurals i funcionals |
|
Micro-perforació de forats |
Forats fins i matrius de forats |
|
Retall |
Acabats de vora i perfil |
|
Tall d'anell |
Components circulars de SiC |
|
Esborrat per lots |
Producció d'alta{0}}eficiència |
|
Processament de patrons |
Estructures ceràmiques fines |
Configuracions típiques de màquines de tall per làser SiC
Sistema de processament làser UV
|
Item |
Especificació |
|
Equipament |
Sistema de processament làser UV |
|
Aplicació |
Tall làser de ceràmica SiC i micromecanitzat |
|
Longitud d'ona làser |
355 nm |
|
Tipus làser |
Làser de nanosegons UV |
|
Potència làser |
20W |
|
Freqüència làser |
50-200 kHz |
|
Àrea màxima de processament |
300 × 300 mm* |
|
Camp d'escaneig únic |
50 × 50 mm |
|
-Viatge de l'eix Z |
50 mm |
|
Punt enfocat mínim |
20μm |
|
Amplada mínima de línia de gravat |
15μm |
|
Precisió de posicionament de la taula de treball |
±3μm |
|
Repetibilitat de la taula de treball |
±2μm |
|
Precisió de posicionament de la visió CCD |
±3μm |
|
Velocitat màxima d'escaneig |
7000 mm/s |
|
Sistema d'aspiració |
Caudal d'aire del ventilador 100 m³/h |
|
Interval de temperatura del refrigerador |
18-24 graus |
|
Precisió de la temperatura del refrigerador |
Inferior o igual a 0,2 graus |
|
Font d'alimentació |
220 V, 50 Hz |
|
Consum total d'energia |
5 kW |
|
Dimensions de la màquina |
1500 × 1400 × 1800 mm |
|
Aprox. Pes de la màquina |
1500 kg |
|
Programari |
Control coordinat de galvanòmetre + plataforma de moviment |
|
Suport de fitxers CAD |
DXF estàndard |
|
Suport de dibuix gran |
1 GB+ |
|
Làser opcional |
Làser de picosegon UV |
*L'àrea de processament de 300 × 300 mm s'aconsegueix mitjançant l'exploració coordinada del galvanòmetre i el moviment-de la plataforma. El camp del galvanòmetre únic és de 50 × 50 mm.
Sistema de tall per làser QCW
|
Item |
Especificació típica |
|
Paràmetre |
Interval recomanat |
|
Longitud d'ona làser |
1060-1080 nm |
|
Potència de sortida del làser |
150W-1000W |
|
Gamma màxima de tall |
Menys o igual a 300*400 mm |
|
Gruix de tall |
0,2-10 mm |
|
Material |
Ceràmica de carbur de silici (SiC). |
|
Tipus làser |
Làser de nanosegons de fibra QCW |
|
Gruix típic |
0,3-6 mm |
|
Tramitació principal |
Tallar, perforar, ranurar, retallar |
|
Processament de-forats grans |
Apte |
|
Precisió de posicionament repetit de l'eix X/Y |
± 5um |
|
Velocitat de processament |
0-2000 mm/min |
|
Velocitat màxima de distància |
50 m/min |
|
Precisió de mecanitzat |
±0,01-0,02 mm |
|
Precisió de la taula de treball |
Menor o igual a 0,015 mm |
|
Mode de transmissió |
Motor lineal importat +0.5um regle de reixeta |
|
Potència de tota la màquina (sense ventilador) |
Menys o igual a 5KW |
|
Pes total de tota la màquina |
(aproximadament) 1200 kg |
|
Mida externa (longitud * amplada * alçada) |
1150 * 1500 * 1850 mm |
|
Processament de micro-forats |
No és l'aplicació principal |
|
Aplicació típica |
Components SiC estructurals i funcionals |
|
Mode de processament |
Processament làser CNC |
|
Personalització |
Disponible segons els requisits de peça i procés |
*La capacitat de gruix real depèn de la composició de SiC, la densitat, la geometria, el camí de tall i la qualitat de vora requerida.
Aplicacions del processament làser de carbur de silici
Equips de fabricació de semiconductors
Les ceràmiques SiC s'utilitzen àmpliament en equips de fabricació de semiconductors a causa de la seva estabilitat tèrmica, resistència química i estabilitat dimensional.
01
Electrònica de potència
Els components ceràmics de SiC es poden utilitzar en aplicacions d'electrònica-de potència exigent i d'alta-temperatura.
02
Equips fotovoltaics
Els components de SiC s'utilitzen en equips de fabricació fotovoltaica d'alta{0}temperatura i sistemes de forn.
03
Aeroespacial i Automoció
Les propietats resistents a les altes-temperatura i al desgast-SiC el fan adequat per a components aeroespacials i d'automoció seleccionats.
04
Ceràmica Industrial
El processament làser SiC també es pot utilitzar per a components industrials que requereixen una gran duresa, resistència tèrmica i resistència al desgast.
05
Mostres típiques de processament làser de SiC

Mostra de perforació de carbur de silici
Matriu de micro-forats de precisió amb un posicionament precís i geometria de forats uniforme.
Mostra de carbur de silici unida-reacció
Tall de precisió de la reacció-SiC unida per a components estructurals complexos.


Mostra de perforació de tubs de carbur de silici
Perforació de precisió de la paret lateral amb forats nets i{0}}ben definits.
Mostra de tall de carbur de silici
Tall de contorn de precisió amb tall consistent i vores netes.

Proveu el vostre SiC abans d'invertir
No esteu segur de si la vostra aplicació SiC requereix processament làser UV, QCW o picosegundo?
Envieu-nos la vostra consulta!
- Material:Grau de SiC o especificació del material
- Gruix:Gruix ceràmic
- Mida de la part:Dimensions màximes de la peça
- Dibuix:DXF, DWG, PDF o un altre format disponible
- Diàmetre del forat:Si cal perforar
- Processament:Tallar / Perforar / Traçar / Ranurar / Retallar
- Qualitat:Tolerància dimensional i{0}}requisits de qualitat de vora
- Producció:Volum de producció previst
Els nostres enginyers utilitzaran aquesta informació per recomanar una font làser, un sistema òptic, una plataforma de moviment i una estratègia de processament adequats.

Preguntes freqüents
P: Quin làser és millor per tallar carbur de silici?
R: No hi ha cap làser únic que sigui el millor per a cada aplicació de SiC. 355Els làsers UV nm són generalment més adequats per a SiC prim, estructures fines i micro-forats, mentre que els làsers de fibra QCW són més adequats per a SiC més gruixut, contorns més grans, forats més grans i processament d'alta-eficiència. Els làsers de picosegons UV es poden considerar per a aplicacions que requereixen característiques més fines o un impacte tèrmic més baix.
P: Un làser pot tallar SiC gruixut?
A: Sí. Els sistemes làser de fibra QCW es poden configurar per a un tall de ceràmica SiC més gruixuda. Un sistema representatiu WHYC Laser QCW té un rang de processament típic d'aproximadament 0,3-6 mm. El límit teòric és de 10 mm, que no es recomana com a estàndard de producció en massa.
P: Es pot perforar làser SiC?
A: Sí. El SiC es pot perforar amb làser per a forats de muntatge, forats de posicionament, obertures funcionals grans, micro-forats i matrius de forats. El làser adequat depèn en gran mesura del diàmetre del forat requerit, el gruix del material, la relació d'aspecte i la qualitat del forat.
P: Un làser QCW pot perforar micro-forats a SiC?
R: Els sistemes làser QCW estan pensats principalment per a forats i obertures estructurals més grans en lloc de micro-forats de precisió. Per a forats molt petits i matrius de forats fins, generalment és més adequat un làser UV de 355 nm o un làser de picosegons UV.
P: El làser UV és millor que el QCW per a SiC?
R: Depèn de l'aplicació. En general, els UV es prefereixen per a SiC prim, estructures fines, micro-forats, ranures estretes i processament de precisió. Generalment, el QCW es prefereix per a SiC més gruixut, contorns grans, forats grans i producció d'alt rendiment-.
P: La màquina pot processar contorns complexos de SiC?
A: Sí. El processament làser controlat per CNC-pode seguir geometries CAD personalitzades i produir contorns complexos, ranures, anells, obertures i perfils irregulars sense matrius de tall mecànics dedicats.
P: Podeu provar la nostra mostra de SiC abans de comprar l'equip?
A: Sí. Es recomana fer proves de mostres perquè la composició de SiC, la densitat, el gruix, la geometria i els requisits de qualitat poden afectar significativament els resultats del processament. Els clients poden proporcionar mostres, dibuixos i requisits tècnics per a l'avaluació.
P: Es pot personalitzar la màquina de tall làser SiC?
A: Sí. La potència làser, l'àrea de treball, el sistema òptic, la plataforma de moviment, el posicionament visual, l'automatització i les funcions de processament es poden personalitzar segons l'aplicació.
Som un dels fabricants i proveïdors de màquines de tall per làser més professionals a la Xina, també donem suport al servei personalitzat. Sigueu lliures de comprar una màquina de tall per làser industrial per a la venda aquí i obteniu un pressupost de la nostra fàbrica. Per consultar preus, poseu-vos en contacte amb nosaltres.
